问暗黑破坏神2攻略 rescue on mount arreat高原拯救战怎么过?
暗黑破坏神2攻略
宜箫轻尘
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月野兔酱
本答案是我回答另外一个相似问题的答案，我拷贝过来，仅供参考。要想清楚了解两者区别，我们先来分别看一下国内首台超分辨率光刻机的一些特性，以及目前世界上最先进的asml的nxe 3400b光刻机。关于国产光刻设备，先看来看军报的新闻报道
国产首台超分辨率光刻设备11月29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。该光刻机由**科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示，该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过了国外相关知识产权壁垒。目前已经量产出货的最先进的光刻机，是来自荷兰的asml的nxe 3400b，该光刻机的光源使用的是激光等离子源产生的约13.5nm的极紫外波长。主要运用于7nm及5nm的芯片生产，目前已经有台积电，三星，英特尔采购，国内中芯国际也花费超过1亿美元购入一台nxe3400b。二者区别1.光刻技术基础。此次的国产光刻设备，采用的表面等离子体超分辨光刻，也就是surface pla**a，我们也把其称之为表面等离子超衍射光刻，这是最近十几年兴起的新技术。这种光刻的工作原理是入射光照射在透镜表面的小探针上，从而激发产生pla**a，产生波长非常短的等离子体，然后在光刻胶上刻出非常小的图形。简称sp光刻。而asml商用的光刻机，nxt系列采用aif,将激光束经过一些列整形后，投射经过reticle，在投射到晶元硅片上。2.光刻的晶元尺寸不同。国产首台超分辨率光刻设备目前展示光刻晶元为4寸，该尺寸属于较小类型，非主流的12寸或者8寸。而目前主流光刻机生产的硅片为12寸，或者8寸。3.对于此次的的国产光刻机，以目前的技术能力，只能做周期的线条和点阵，是无法制作复杂的ic需要的图形的。更进一步，以光电所目前的实力，ic制造需要的超高精度对准技术，也是无法实现的。而asml的最先进机型，nxe3400b已经出货。三星已经用euv研发出7nm工艺，即将投入生产7nm芯片，每小时能光刻125片12寸硅片。值得注意的是，国产首台超分辨率光刻设备所采用的sp光刻，主要缺点就是聚焦的面积非常小，属于接触式光刻，易产生缺陷，且因是直写式光刻，所以生产效率很低，适用于特殊应用，类似的应用范围是光纤领域，5g天线，或者是如演示的用于科研领域的单光子探测器。这对于实验室科研，军工，有一定的意义，可以一定程度上替代现在的e beam光刻。另一方面，目前这个技术也具有图形粗糙度糟糕的特点，图像保真度非常低，只能作为技术验证，不能作为真实生产，更不要说量产可能了。asml的光刻机，它的核心技术应该是在于精度的控制，在完美控制精度的同时，不断提高光刻的效率，才能得以商业化。目前国产光刻机，最大的问题可能是这两个：1.对精度的控制仅能在4寸的晶元上，做线条和点阵。目前主流12寸晶元的精度控制控制可能还欠缺，无法对复杂的电路进行光刻，也是表现为精度控制不足。2.光刻效率。每小时能刻出多少片晶元呢？
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问 暗黑破坏神2 攻略 希弗伯装备怎么找
提问时间：2024-05-12 12:47:02
答 这是个垃圾套装，不过既然问了，我肯定回答。第二幕，遗失的城市，遥远的绿洲，还有古代通道【遗失城市里边的】，经常会爆出来，在普通难度里边这个第二幕最多，但是你有可...
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提问时间：2024-05-12 03:26:48
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问 暗黑破坏神3单机版怎么玩 暗黑破坏神玩法攻略
提问时间：2024-05-12 23:54:01
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提问时间：2024-05-12 18:18:33
答 任务一：radamenbt‘s lair罗德门特的巢穴 进入任务后，找妇人阿特玛（atma）对话。她在旅店附近晃悠。得知附近下水道的怪物经常 骚扰百姓。其首领r...
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问 暗黑破坏神2黑暗森林怎么走
提问时间：2024-05-12 13:57:19
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